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Die Ende 2007 als Start-up-Unternehmen gegründete Firma Nanoscribe GmbH, Eggenstein-Leopoldshafen, hat ein neues Laserlithografieverfahren auf den Markt gebracht, mit dem sich erstmals komplexe dreidimensionale Mikro- und Nanostrukturen in photosensitiven Materialien vollautomatisch herstellen lassen.
Vergleichbar einem Stift, der in drei Dimensionen geführt wird, beschreibt der Laserstrahl das Material entlang beliebiger Pfade. Dabei werden Linienbreiten bis hinunter zu 150 nm erreicht, wobei ein Volumen von 300 µm x 300 µm x 80 µm beschrieben werden kann.
Typische Einsatzbereiche für das neue Laserlithografieverfahren finden sich z.B. bei der Herstellung dreidimensionaler Gerüste für die Zellbiologie, bei der Fertigung mikro-optischer Bauelemente, photonischer Kristalle oder nanofluidischer Systeme.
Für die Feinjustierung des Lithografieobjekts sind Nanopositioniersysteme mit piezoelektrischen Aktoren das Mittel der Wahl: Der Mehrachsen-Nanostelltisch P-563 der Firma Physik Instrumente (PI), Karlsruhe, arbeitet mit Stellwegen bis 300 µm x 300 µm x 300 µm und einer Wiederholgenauigkeit im Nanometerbereich. Zur hohen Positioniergenauigkeit trägt der Aufbau als parallelkinematisches und parallelmetrologisches Mehrachssystem bei.
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