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Zentrum für die Entwicklung von Belichtungsmasken für die nächsten Chip-Generationen

16.05.2002


Infineon, AMD und DuPont errichten gemeinsames Forschungszentrum
AMTC soll Fotomasken für die nächste Chip-Generation entwickeln


Infineon wird zusammen mit AMD und DuPont Photomasks in Dresden ein gemeinsames Zentrum für die Entwicklung von Belichtungsmasken für die nächste Chip-Generationen errichten. Wie der Halbleiterproduzent heute, Donnerstag, in einer Aussendung bekannt gab, soll das Joint Venture unter dem Namen Advanced Mask Technology Center (AMTC) die lithografischen Masken auch in Vorserie herstellen. Die Belichtungsmasken für die Chipproduktion sollen dann im selben Komplex von DuPont in hohen Stückzahlen produziert werden.

AMTC wird rund 170 Mitarbeiter aus allen drei beteiligten Unternehmen übernehmen. Zusammen sollen sie Prozesstechniken für Chips mit Baugrößen von 90 und 65 Nanometer und kleiner entwickeln. Der Gebäudekomplex für AMTC mit einer Größe von 17.500 Quadratmetern soll bis zum Jahresbeginn 2003 errichtet werden. Es ist geplant, dass AMTC und DuPont bereits in der zweiten Jahreshälfte 2003 mit der Produktion beginnen. Die Gesamtinvestitionssumme für die kommenden fünf Jahre wird mit 360 Mio. Euro angegeben. Der Standort liegt in unmittelbarer Nähe der Dresdner Werke von Infineon und AMD.

Zusätzlich haben DuPont und Infineon vereinbart, dass DuPont strategischer Lieferant für Fotomasken sein wird. Dieses Abkommen gilt für zehn Jahre. Im Gegenzug wird Infineon nach eigenen Angaben sein Maskenhaus in München, das bisher alle lithografischen Masken für alle Produktionsstandorte des Konzerns entwickelte und produzierte, mit 230 Mitarbeitern auflassen. Das Unternehmen erwartet sich durch den Schritt eine Verkürzung der Entwicklungszyklen und eine Kostenreduktion.

Dominik Schebach | pte.monitor
Weitere Informationen:
http://www.infineon.com/news/press/205_087d.htm

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