Optische Lithographie – ein Verfahren zur Herstellung von Mikrobauteilen und Formeinsätzen
Die Verwendung des negativ arbeitenden Photoresists EPON SU-8 ermöglicht die Herstellung von Kunststoffmikrostrukturen mit einer Strukturhöhe von mehreren 100 µm. Dabei sind Aspektverhältnisse (Verhältnis von Strukturhöhe zu Strukturdetail) im Bereich von 10 erreichbar. Die Verwendung des Photoresists EPON SU-8 ermöglicht die Herstellung von Mikrostrukturen mit nahezu senkrechten Seitenwänden mit Oberflächenrauigkeiten von kleiner 20 Nanometer.Aufgrund der exzellenten Haftung der einzelnen Resistschichten können auch stufige Mikrostrukturen durch eine serielle Beschichtung und Belichtung erzeugt werden.
Vorteile dieses Verfahrens für den Anwender sind die grosse zu strukturierende Nutzfläche (auf 6-Zoll-Basis) und der Einsatz konventioneller UV-Lithographie-Techniken. Hieraus folgen schnelle Prozesslaufzeiten für die Formeinsatzherstellung, d. h. Entwicklungsarbeiten und Herstellung von Applikationsprototypen können zeitlich eng verzahnt werden.
Dr. Manuella Werp
Forschungszentrum Karlsruhe GmbH
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