Metalloxidabscheidung unter 600 °C
Als bahnbrechend wird dabei herausgestellt, dass dadurch herkömmliche Hartstoffe mit harten Metalloxiden fast beliebig kombinierbar und die Schichteigenschaften in einem bisher nicht gekannten Ausmaß optimierbar sind.
Ein kontrollierter Pulsstrom beeinflusse gezielt die Elektronenemission und Plasmadichte, heißt es. Hohe Prozess-Stabilität und einfache Handhabung hebt man als weitere Vorteile hervor.
Die PVD-Anlage Innova – eine Weiterentwicklung der Anlage RCS – kann mit dem Verfahren betrieben werden. Als erste wesentliche Verfahrensanwendung wird die Beschichtung von Wendeschneidplatten angesehen.
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