Monolitisch integrierte Nanowire-Laser
Neuartige Technologie, die eine Formierungen von III-V-Material vertikalen Nanowire-Lasern erlaubt, die als Substrat auf einem Silikon Wafer wachsen. Sie eröffnet neue Möglichkeiten für die CMOS-konforme Herstellung von Telekom-Lasern und neuen logischen Chip Architekturen.
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