Workshop Nanoimprint Technology

Für die lithographische Herstellung von Strukturen kleiner 100 nm stehen heute teure EUV-Lithographieverfahren zur Verfügung. Die Entwicklung einer neuen Lithographie-Generation für Strukturen kleiner 100 nm beschäftigt deshalb die Industrie. Hochgenauer Massenfertigung mit möglichst geringen Kosten ist das Ziel. Die Nanoimprint-Technologie bietet die Möglichkeit, Komponenten mit optischen und photonischen Strukturen, MEMS/NEMS, kleine Displays und Verbindungshalbleiter kostengünstig zu reproduzieren.

Unter wissenschaftlicher Leitung von Herrn Prof. Dr. Theo Tschudi von der TU Darmstadt stellen am 24. Mai 2007 in Wetzlar namhafte Wissenschaftler/-innen und Ingenieure/-innen aus Hochschule und Industrie die Grundlagen und Anwendungen der Nanoimprint-Technologie vor und diskutieren ihe Anwendungen in den optischen Technologien.

Weitere Informationen und das genaue Programm finden sie im Internet unter

http://www.optence.de/workshop-nanoimprint-technoloy/

Dort haben Sie auch die Möglichkeit, die Veranstaltung Online zu buchen.

Kontakt:
Optence e.V.
Daniela Reuter
reuter@optence.de
Tel. 06732-935122