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Anisotropische Struktur

29.04.2010
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum anisotropen Strukturieren von Materialien der Mikro- und Optoelektronik sowie der Mikromechanik durch Ätz- und Passivierungsvorgänge in einem Reaktionsraum eines Plasmaätz-Reaktors. Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein Verfahren bereit zu stellen, mit dem die Nachteile vermieden werden, die beim Passivierungsschritt mit Gasen bzw. Gasgemischen nach dem Stand der Technik verbunden sind. Das Problem wird dadurch gelöst, dass die Passivierung mit sauerstoffhaltigen Gasen bzw. Gasplasmen erfolgt.

Weitere Informationen: PDF

PVA Mecklenburg-Vorpommern AG
Tel.: +49 (0)381/49 74 74 0

Ansprechpartner
Moritz v. Grotthuss, Dr. Rüdiger Werp

info@technologieallianz.de | TechnologieAllianz e.V.
Weitere Informationen:
http://www.technologieallianz.de/angebote.php?sort=sag&id=2026&lang=de
http://www.technologieallianz.de

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Im Focus: Neue Messung verschärft altes Problem

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