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Verfahren zur Herstellung von dreidimensionalen photonischen Kristallen mit holographischer Lithographie

26.03.2007
Dreidimensionale photonische Kristalle mit Bandlücken im nahen Infrarot und im sichtbaren Spektralbereich eignen sich in der optischen Telekommunikation für neuartige Laser, für Beleuchtungszwecke oder als maßgeschneiderte Medien für die nichtlineare Optik.

Ein Verfahren zur kontrollierten Herstellung von qualitativ hochwertigen periodischen dreidimensionalen photonischen Kristallen ist die holographische Lithographie. Hierbei werden zwei, drei, vier oder mehr kohärente Lichtstrahlen im Innern einer Photolackschicht überlagert. Anschließend werden die unterbelichteten Bereiche nasschemisch gelöst, die überbelichteten Bereiche bleiben stehen.In vielen Fällen steht dem Wunsch, einen dreidimensionalen photonischen Kristall mit einer bestimmten Struktur herzustellen, der Grenzwinkel der Totalreflektion im Wege.

Erst der Einsatz des speziellen Einkoppelprismas löst dieses Problem und erlaubt erstmals die Herstellung eines photonischen Kristalls mit einer kubisch flächenzentrierten Symmetrie, die eine Bandlücke im gewünschten Spektralbereich aufweist.

Dr. Stephan Gärtner
Forschungszentrum Karlsruhe GmbH
Stabsabteilung Marketing, Patente und Lizenzen
Hermann-von-Helmholtz-Platz 1
D-76344 Eggenstein-Leopoldshafen
info@map.fzk.de

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Weitere Informationen:
http://www.fzk.de/fzk/idcplg?IdcService=TTB&document=ID_054601&lnode=3452

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