Hans-Werner-Osthoff-Plasmaphysikpreis an RUB-Physiker

Für seine Beiträge zur Erforschung der chemischen Grundlagen verschiedener Plasmen erhält Dr. Jan Benedikt (Fakultät für Physik und Astronomie, Arbeitsgruppe reaktive Plasmen) den Hans-Werner-Osthoff-Plasmaphysikpreis 2009.

Seine Erkenntnisse helfen dabei, Plasmen für technische Anwendungen nutzbar zu machen. Dazu gehören zum Beispiel Beschichtungen von Oberflächen. Der Forschungspreis, den die Ernst-Moritz-Arndt-Universität Greifswald und das Max-Planck-Institut für Plasmaphysik in Garching und Greifswald gemeinsam ausschreiben, wird dieses Jahr auf zwei Preisträger aufgeteilt.

Die Preisverleihung findet im Juli in Greifswald statt.

Der Plasmachemie auf der Spur

Dr. Jan Benedikt beschäftigt sich seit Jahren mit der Aufklärung plasmachemischer Vorgänge in unterschiedlichen Plasmen. Sein besonderes Augenmerk lag zunächst auf azetylenhaltigen Plasmen, die eine große Rolle für viele technische Anwendungen spielen. Zur Untersuchung ihrer Reaktionschemie hat er eine große Zahl unterschiedlicher Diagnostikmethoden eingesetzt und konnte damit klären, wie sich zum Beispiel sehr harte Kohlenstofffilme bilden lassen oder wie in diesen Plasmen kontrolliert Staubteilchen hergestellt werden können. Derartige Verfahren werden derzeit zur Oberflächenveredelung in der Automobil- und Optikindustrie eingesetzt.

Neue Diagnostiken für kleinste Plasmen

Zurzeit beschäftigt sich Jan Benedikt in der DFG-Forschergruppe ?Physics of Microplasmas? an der Ruhr-Universität mit der Entwicklung beschichtender Mikroplasmen. In diesen besonderen Plasmen laufen chemische Nichtgleichgewichtsreaktionen, wie sie sonst nur bei Niederdruckplasmen realisierbar sind, bei Atmosphärendruck ab. Mikroplasmen besitzen ein großes Anwendungspotential für die Zukunft, falls es gelingt ohne aufwändige Vakuumapparaturen sehr kontrollierte hochwertige Oberflächenveredelungen aufzubringen. Prominente Beispiele sind Diffusionsbarrieren aus glasartigen Schichten, mit denen Kunststoffe oder organische Elektronik verkapselt werden könnten.

Hans-Werner-Osthoff-Preis

Der Hans-Werner-Osthoff-Plasmaphysikpreis ist mit 4000 Euro dotiert und richtet sich an noch nicht habilitierte Nachwuchswissenschaftler, die in der Bundesrepublik Deutschland tätig sind. Die Förderung setzt wissenschaftliche Leistungen auf dem Gebiet der Plasmaphysik voraus, die erwarten lassen, dass die zu fördernde Person auch künftig überdurchschnittliche Leistungen zeigen wird.

Weitere Informationen

Dr. Jan Benedikt, Prof. Dr. Achim von Keudell, Arbeitsgruppe Reaktive Plasmen, Fakultät für Physik und Astronomie der Ruhr-Universität Bochum, 44780 Bochum, Tel.: 0234/32-23680, E-Mail: Achim.vonKeudell@ruhr-uni-bochum.de

Redaktion: Meike Drießen