Forum für Wissenschaft, Industrie und Wirtschaft

Hauptsponsoren:     3M 
Datenbankrecherche:

 

Ein Ausblick in die Zukunft der Nanofertigung

08.08.2005


Um den Anforderungen an sehr kleine integrierte Schaltkreise zu entsprechen, wurden mit dem Projekt UV2Litho die Tools und Methoden zur Einführung der 157nm-, oder Vakuumultraviolett (VUV)-, Lithografie geschaffen.



Seit dem Eintritt ins Informationszeitalter sind Halbleiterelemente bei steigender Kapazität und schrumpfenden Abmessungen immer schneller geworden. Für weitere Leistungssteigerungen ist eine dichtere Anordnung der integrierten Schaltkreise mit geringeren Linienstärken die Voraussetzung. VUV ist eine sehr viel versprechende Lithografietechnik, um diese Ziele zu erreichen, die erst kürzlich zu ihrem vollen Potenzial entwickelt wurde.



1999 hatte die International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS) die VUV-Lithografie (157nm Belichtungswellenlänge) zur Herstellung von 100nm- und 70nm-Nodes angeregt. Ein Schlüsselproblem lag in der sehr kurzen Zeitspanne zwischen der Vermarktung von 157nm-Step-Scan-Systemen und der Überleitung der Lithografietechnik in die Produktion.

Davon angetrieben konzentrierte man sich im Rahmen des UV2Litho-Projekts auf die Beschleunigung der Prozessentwicklung zur Einführung der VUV-Lithografietechnik in die Produktionslinien. Daher wurden umfassende Untersuchung zur Erstellung von Resist-Verfahren durchgeführt, mit denen 157nm-Resist-Lösungen für 70nm-Nodes demonstriert werden konnten. Zusätzlich wurden Informationen über die Druckleistungen erster 157nm-Strichplatten für die Branche der Maskenherstellung öffentlich.

Trotzdem wurde daneben mit der 193nm-Immersionslithografie sehr schnell eine alternative Technologie entwickelt, mit der Grundraster kleiner als 70nm möglich werden sollten. Auf der anderen Seite konnte die 157nm-basierte Industrie die sehr strengen Anforderungen für die mit ihr verbundenen Technikkomponenten nicht erfüllen. Aus diesen Gründen wandte sich das Marktinteresse von der 157nm-Technologie ab und konzentrierte sich stattdessen auf die 193nm-Immersionslithografie.

Davon abgesehen ist, gemessen am Produktionswert, die Umsetzbarkeit der 193nm-Immersionstechnik noch immer nicht völlig erwiesen. Wie auch in der aktuellen ITRS-Roadmap dargestellt, wird für den Fall deren Fehlschlages der 157nm-Lithografie die Nachfolge eingeräumt. Mit dem Projekt UV2Litho wurde die Basisarbeit für die Nutzung der VUV-Lithografie geleistet.

Dr. Peter Zandbergen | ctm
Weitere Informationen:
http://www.philips.com
http://www.imec.be/uv2litho/

Weitere Berichte zu: 193nm-Immersionslithografie 70nm-Nodes VUV VUV-Lithografie

Weitere Nachrichten aus der Kategorie Physik Astronomie:

nachricht Flashmob der Moleküle
19.01.2017 | Technische Universität Wien

nachricht Verkehrsstau im Nichts
19.01.2017 | Universität Konstanz

Alle Nachrichten aus der Kategorie: Physik Astronomie >>>

Die aktuellsten Pressemeldungen zum Suchbegriff Innovation >>>

Die letzten 5 Focus-News des innovations-reports im Überblick:

Im Focus: Verkehrsstau im Nichts

Konstanzer Physiker verbuchen neue Erfolge bei der Vermessung des Quanten-Vakuums

An der Universität Konstanz ist ein weiterer bedeutender Schritt hin zu einem völlig neuen experimentellen Zugang zur Quantenphysik gelungen. Das Team um Prof....

Im Focus: Traffic jam in empty space

New success for Konstanz physicists in studying the quantum vacuum

An important step towards a completely new experimental access to quantum physics has been made at University of Konstanz. The team of scientists headed by...

Im Focus: Textiler Hochwasserschutz erhöht Sicherheit

Wissenschaftler der TU Chemnitz präsentieren im Februar und März 2017 ein neues temporäres System zum Schutz gegen Hochwasser auf Baumessen in Chemnitz und Dresden

Auch die jüngsten Hochwasserereignisse zeigen, dass vielerorts das natürliche Rückhaltepotential von Uferbereichen schnell erschöpft ist und angrenzende...

Im Focus: Wie Darmbakterien krank machen

HZI-Forscher entschlüsseln Infektionsmechanismen von Yersinien und Immunantworten des Wirts

Yersinien verursachen schwere Darminfektionen. Um ihre Infektionsmechanismen besser zu verstehen, werden Studien mit dem Modellorganismus Yersinia...

Im Focus: How gut bacteria can make us ill

HZI researchers decipher infection mechanisms of Yersinia and immune responses of the host

Yersiniae cause severe intestinal infections. Studies using Yersinia pseudotuberculosis as a model organism aim to elucidate the infection mechanisms of these...

Alle Focus-News des Innovations-reports >>>

Anzeige

Anzeige

IHR
JOB & KARRIERE
SERVICE
im innovations-report
in Kooperation mit academics
Veranstaltungen

Nachhaltige Wassernutzung in der Landwirtschaft Osteuropas und Zentralasiens

19.01.2017 | Veranstaltungen

Künftige Rohstoffexperten aus aller Welt in Freiberg zur Winterschule

18.01.2017 | Veranstaltungen

Bundesweiter Astronomietag am 25. März 2017

17.01.2017 | Veranstaltungen

 
VideoLinks
B2B-VideoLinks
Weitere VideoLinks >>>
Aktuelle Beiträge

Flashmob der Moleküle

19.01.2017 | Physik Astronomie

Tollwutviren zeigen Verschaltungen im gläsernen Gehirn

19.01.2017 | Medizin Gesundheit

Fraunhofer-Institute entwickeln zerstörungsfreie Qualitätsprüfung für Hybridgussbauteile

19.01.2017 | Verfahrenstechnologie