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Workshop Nanoimprint Technology

05.04.2007
Namhaft Wisenschaftler/-innen und Ingenieure/-innen aus Hochschule und Industrie berichten am 24. Mai 2007 in Wetzlar über die Grundlagen und Anwendungen der Nanoimprint Technologie und werden deren Möglichkeiten und Grenzen bezüglich der Anwendung in den optischen Technologien aufzeigen.

Für die lithographische Herstellung von Strukturen kleiner 100 nm stehen heute teure EUV-Lithographieverfahren zur Verfügung. Die Entwicklung einer neuen Lithographie-Generation für Strukturen kleiner 100 nm beschäftigt deshalb die Industrie. Hochgenauer Massenfertigung mit möglichst geringen Kosten ist das Ziel. Die Nanoimprint-Technologie bietet die Möglichkeit, Komponenten mit optischen und photonischen Strukturen, MEMS/NEMS, kleine Displays und Verbindungshalbleiter kostengünstig zu reproduzieren.

Unter wissenschaftlicher Leitung von Herrn Prof. Dr. Theo Tschudi von der TU Darmstadt stellen am 24. Mai 2007 in Wetzlar namhafte Wissenschaftler/-innen und Ingenieure/-innen aus Hochschule und Industrie die Grundlagen und Anwendungen der Nanoimprint-Technologie vor und diskutieren ihe Anwendungen in den optischen Technologien.

Weitere Informationen und das genaue Programm finden sie im Internet unter

... mehr zu:
»Nanoimprint »Technology

http://www.optence.de/workshop-nanoimprint-technoloy/

Dort haben Sie auch die Möglichkeit, die Veranstaltung Online zu buchen.

Kontakt:
Optence e.V.
Daniela Reuter
reuter@optence.de
Tel. 06732-935122

Daniela Reuter | idw
Weitere Informationen:
http://www.optence.de
http://www.optence.de/workshop-nanoimprint-technoloy/

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