70nm-Nodes

Ein Ausblick in die Zukunft der Nanofertigung

Um den Anforderungen an sehr kleine integrierte Schaltkreise zu entsprechen, wurden mit dem Projekt UV2Litho die Tools und Methoden zur Einführung der 157nm-, oder Vakuumultraviolett (VUV)-, Lithografie geschaffen.

Seit dem Eintritt ins Informationszeitalter sind Halbleiterelemente bei steigender Kapazität und schrumpfenden Abmessungen immer schneller geworden. Für weitere Leistungssteigerungen ist eine dichtere Anordnung der integrierten Schaltkreise mit geringeren Linienstärken di