Verfahren zur Verbesserung der Eigenschaften gesputterter Metalloxidschichten
Metalloxidschichten für zum Beispiel Halbleitersensoren oder Solarzellen (z. B. Tandem-Solarzellen auf Basis von Cu2O) werden üblicherweise durch Kathodenzerstäubung (HF oder RF-Sputtering) hergestellt.
Das neuartige Verfahren umfasst im wesentlichen die Zudosie-rung von Wasserstoffgas in geeigneter Weise während des eigentlichen Sputterprozesses. Es werden dadurch deutliche Verbesserungen der elektrischen Eigenschaften, z.B. der Ladungsträgerkonzentration und der Ladungsträger-Beweglichkeit sowie des Schichtwiderstandes erreicht.
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