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DRAM-Speicherchips: Gemeinsame Technologieentwicklung und Gründung eines Fertigungs-Joint Ventures

02.05.2002


Nach erfolgreichen Kooperationsgesprächen haben Infineon Technologies (FSE/NYSE: IFX), München, und Nanya Technology Corporation (NTC), Taoyuen/Taiwan, ein unverbindliches Memoradum of Understanding (MoU) über eine Zusammenarbeit bei Standard-Speicherchips (DRAMs) unterzeichnet. Im Rahmen des Abkommens werden die beiden Halbleiterhersteller ab Oktober 2002 die zukunftsweisenden 0,09-µm- und 0,07-µm-Fertigungstechnologien für 300-mm-Wafer gemeinsam entwickeln und damit die Entwicklungskosten teilen. Die Unternehmen haben zudem vereinbart, ein 50:50-Joint Venture für die Fertigung von DRAM-Chips zu gründen und ein neues gemeinsames 300-mm-Werk in Taiwan zu bauen. In der ersten Ausbaustufe soll die Fertigung im zweiten Halbjahr 2004 eine Kapazität von monatlich rund 20.000 Waferstarts erzielen, wobei die Produktion der ersten 300-mm-Wafer bereits Ende 2003 vorgesehen ist. Sitz des Joint Ventures wird Taoyuen/Taiwan in der Nähe der jetzigen Fertigung von Nanya sein. Die Transaktion bedarf noch der Zustimmung durch die Kartellbehörden.

„Mit dieser Vereinbarung erweitern wir konsequent die Kooperationen mit taiwanischen Partnern. Wir verstärken zielstrebig unsere Position in Asien und erhöhen unseren Anteil im weltweiten Markt für Speicherchips“, erläuterte Dr. Ulrich Schumacher, Vorstandsvorsitzender der Infineon Technologies AG. „Nanya ist ein idealer Partner für uns, denn wir arbeiten auf gleicher technologischer Basis. Gemeinsam werden wir die künftigen Fertigungsprozesse auf Basis unserer führenden 300-mm-Technologie entwickeln und ein innovatives 300-mm-Halbleiterwerk in Taiwan errichten. Dadurch können wir unsere Technologie- und Kostenführerschaft weiter ausbauen.“

„Unsere Kooperation mit Infineon ist ein wichtiger Schritt, um die Kräfte der beiden Unternehmen bei der Entwicklung und Fertigung von DRAM-Chips in Trench-Technologie zu bündeln“, kommentierte Dr. Jih Lien, Präsident von Nanya Technologies.

Die beiden Unternehmen werden die neue 0,09-µm- und 0,07-µm-Fertigungstechnik am Infineon-Standort Dresden zusammen entwickeln und auch im neuen Gemeinschaftsunternehmen einsetzen. So wird die Produktion der 300-mm-Wafer mit dem neuen 0,09-µm-Prozess im gemeinsamen Werk in Taoyuen Ende 2003 starten. Zudem ist auch vorgesehen, die 0,09-µm-Fertigungstechnik auch für 200-mm-Wafer einzusetzen. Basis für die gemeinsame Entwicklung der künftigen Fertigungstechnik ist die hochentwickelte DRAM-Trench-Technologie für 300-mm-Wafer von Infineon, die das Unternehmen an Nanya lizensiert. Die Volumenproduktion der 300-mm-Technologie hat Infineon als weltweit erstes Unternehmen bereits Ende letzten Jahres am Referenzstandort Dresden aufgenommen. Durch den Wechsel zu den kleineren 0,09-µm- und 0,07-µm-Strukturen beim Chipaufbau kann künftig ein weiterer Produktivitätsschub realisiert werden.

Das Fertigungs-Joint Venture in Taoyuen wird in den internationalen Verbund von DRAM-Fertigungsstandorten von Infineon integriert, der aus den Produktionsstätten in Dresden, Richmond, Virginia (USA) und ProMOS Technologies, dem Joint Venture mit Mosel Vitelic in Hsinchu (Taiwan) gebildet wird. Dieses Konzept der globalen Vernetzung der Fabriken gewährleistet weltweit an allen Standorten gleich hohe Qualitätsstandards sowie einen ständigen Erfahrungsaustausch.

Über Nanya

Die Nanya Technology Corporation (NTC) wurde am 4. März 1995 gegründet. NTC beschäftigt sich mit Forschung und Entwicklung, Design, Fertigung und Vertrieb von Halbleiter-Produkten. Als Vorstandsvorsitzender leitet Y.C. Wang die Firma, deren größter Aktionär die Nanya Plastics Corporation (Formosa Plastic Group) ist. NTC begann 1996 mit der Halbleiterproduktion und eröffnete 1997 sein nordamerikanisches Büro in San Jose, Kalifornien. Seit 1997 bietet die Firma ihre Foundry-Dienstleistungen an. Weitere Informationen über Nanya Technology sind unter +1-408 441 7819 oder http://www.nanya.com erhältlich. Der NTC-Haupsitz in Taiwan ist unter 886-3-328-1688 oder http://www.ntc.com erreichbar.

Über Infineon

Infineon Technologies AG, München, bietet Halbleiter- und Systemlösungen für Anwendungen in der drahtgebundenen und mobilen Kommunikation, für Sicherheitssysteme und Chipkarten, für die Automobil- und Industrieelektronik, sowie Speicherbauelemente. Infineon ist weltweit tätig und steuert seine Aktivitäten in den USA aus San Jose, Kalifornien, im asiatisch-pazifischen Raum aus Singapur und in Japan aus Tokio. Mit weltweit rund 33.800 Mitarbeitern erzielte Infineon im Geschäftsjahr 2001 (Ende September) einen Umsatz von 5,67 Milliarden Euro. Das DAX-Unternehmen ist in Frankfurt und New York (NYSE) unter dem Symbol „IFX“ notiert. Weitere Informationen unter www.infineon.com

Charles Kau | Gemeinsame Presseinformation
Weitere Informationen:
http://www.infineon.com

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