Funktionalisierte Festkörperoberflächen von Metallen, Halbleitern und Isolatoren mit Nanostrukturen

Die Erfindung ist ein Verfahren zur großflächigen Herstellung vergrabener und/oder oberflächennaher Nanostrukturen in Halbleitermaterialien mit Fremdatomen mittels Ionenimplantation und Laserausheilung.

Weitere Informationen: PDF

GWT-TUD GmbH; FB Sächsische PatentVerwertungsAgentur (SPVA)
Tel.: +49 351 25933 120

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