Vakuumpumpe mit hoher Gasdichtheit
Die neue Chemie-Membranpumpe MD 4CRL NT weist nicht nur eine sehr niedrige Leckrate auf, die zu 100 % geprüft wird, sondern ist gleichzeitig auch für den Einsatz mit korrosiven Gasen ausgelegt.
Die gasberührten Teile sind komplett aus Fluorkunststoffen und hochkorrosionsbeständigem Edelstahl (wie V4A) gefertigt. Das hohe Saugvermögen (bei Atmosphärendruck 3,4 m3/h) bis nahe an das Endvakuum von 1,5 mbar erlaubt die Anwendung in vielen Vakuumprozessen. Hinzu kommt der besonders leise und vibrationsarme Lauf der Pumpe durch die patentierte Antriebslagerung.
Die PTFE-Sandwichmembran und der Stabilitätskern im medienberührten Zylinderkopfdeckel und der Membran-Spannscheibe verleihen hohe chemische Resistenz bei langer Membranlebensdauer. Jede einzelne MD 4CRL wird leckgeprüft und liefert damit eine zuverlässig hohe Gasdichtheit auch im Dauerbetrieb.
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