SVC Mentor Award 2014 für Braunschweiger Wissenschaftler des Fraunhofer IST
Durch HIPIMS werden Plasmen mit einem hohen Anteil an ionisierten schichtbildenden Atomen erzeugt. Es entstehen Schichtsysteme mit völlig neuen und verbesserten Eigenschaften, z. B. hinsichtlich Dichte, Härte, Rauheit oder Brechungsindex, die bisher mit keiner verfügbaren Technologie realisiert werden können.
Das Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST hat auf dem Gebiet der industrienahen Anwendung von HIPIMS eine weltweit führende Position erreicht und verfügt über eine einzigartige Ausstattung an HIPIMS-Spannungsversorgungen, Beschichtungsquellen (Planar- und Rohrkathoden) sowie Labor- und Produktionsanlagen, die mit HIPIMS-Technologie ausgestattet sind.
Die Technologie eignet sich zur Herstellung unterschiedlichster Schichtsysteme, z. B. im Bereich der Optik, Sensorik oder Tribologie.
Dr. Ralf Bandorf initiierte 2009 im Rahmen einer sogenannten »COST Action« (COST – European Cooperation in Science and Technology) ein Netzwerk zur HIPIMS-Technologie, um die Verbindung zwischen Forschungs- und Industrieeinrichtungen zu stärken und die Industrialisierung voran zu treiben.
Das Netzwerk verbindet über 160 Mitglieder aus 30 überwiegend europäischen Ländern auf dem Gebiet der hochionisierten Pulsplasmen. Seit 2009 existiert darüber hinaus eine Kooperation mit der Sheffield Hallam University inklusive eines gemeinsamen HIPIMS-Labors in England.
Seit 2010 wird die »International Conference on Fundamentals and Applications of HIPIMS« abwechselnd in Sheffield und Braunschweig von der Sheffield Hallam University, dem Fraunhofer IST und dem Kompetenznetz INPLAS veranstaltet und von Prof. Arutiun Ehiasarian (Sheffield Hallam University) und Dr. Ralf Bandorf geleitet.
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