Neues Lithografieverfahren revolutioniert Industrie

Mitarbeiter des zum Nationalen Forschungsrat CNR gehörenden Istituto per lo Studio dei Materiali Nanostrutturati haben ein revolutionäres Lithographieverfahren entwickelt, mit dem Flüssigkeiten jeder Art bis hin in den nanometrischen Bereich auf Oberflächen aufgetragen und gedruckt werden können. Der Clou: Die „Lithographic Controlled Wetting“-Methode bedarf keiner besonderen Ausrüstung oder Infrastruktur.

Keine Interaktion nötig

„Die Neuheit besteht darin, dass zwischen den Molekülen des Flüssigmaterials und der Trägerfläche keine spezifische Interaktion stattfinden braucht“, so Projektleiter Massimiliano Cavallini gegenüber pressetext. Die Lösung verteile sich automatisch um die herausragenden Oberflächenfragmente.

„Der Effekt ist ähnlich dem einer feuchten Kaffeetasse auf dem Kaffeeteller“, so der italienische Wissenschaftler. Auf dem Substrat werde ein dünner Lösungsfilm aufgetragen, der sich mithilfe der Kapillarkräfte der Form des Druckstempels anpasst und nach dem Trocknen infolge der erhöhten Farbkonzentartion seine Konturen wiedergibt.

Laut Cavallini entsteht eine Oberfläche, die besondere physikalische Eigenschaften wie beispielsweise elektrische Leitfähigkeit oder Superparamagnetismus aufweist. Als Anwendungsbereiche kommt die industrielle Fertigung von zweipoligen Transistoren, von kleinen Speicherelementen und von Biomolekülen für die Sensortechnik infage. Auch die Herstellung von Etiketten für Tiefkühlprodukte und der Einsatz in der Nanoelektronik ist denkbar.

Wesentlich kostengünstiger

Die Technologie ist kostengünstiger als die in der Lithogarphie übliche Top-Down-Technik. In Zeiten der Krise sei es besonders wichtig, dass sich Neuentwicklungen für mehrere sektorielle Einsatzgebiete eignen. Eine Lizenz des inzwischen patentierten Verfahrens ist an das auf Antifälschungstechnik und Heilmittelkonservierung spezialisierte italienische Spinoff-Unternehmen „Scribia Nanotecnologie“ abgetreten worden.