Zwickauer Mikrotechniker präsentieren neues Infrarot-Trocknungssystem

Aushärtbare Kunstlacke, wie zum Beispiel Expoxidharze, kommen in der Mikrosystemtechnik bei der Herstellung mikromechanischer Bauelemente zum Einsatz. Dabei sind diese Lacke aber meistens nur Hilfsstoffe während des Prozesses.

Durch spezielle Verfahren können aber auch direkt aus den Lacken selbst mechanische Mikrosysteme gefertigt werden. Eine wesentliche Anforderung bei der Herstellung solcher Strukturen ist dabei eine gleichmäßige Trocknung der Lackschichten sowie ein möglichst geringer Restlösungsmittelgehalt.

Genau an diesem Punkt setzt das neue Infrarot-Trocknungssystem, das Wissenschaftler der Arbeitsgruppe Micro-Electro-Mechanical Systems (AG MEMS) der Westsächsischen Hochschule Zwickau (WHZ) unter Leitung von Prof. Jürgen Grimm entwickelt haben, an.

So wird der Trocknungsprozess in dem neuen System gravimetrisch kontrolliert, das heißt, das Verhältnis zwischen Feststoffgehalt und Lösungsmittelgehalt wird durch eine Gewichtsanalyse direkt beim Prozess bestimmt. Dadurch kann der Prozess jederzeit bei einem gewünschten Wert abgebrochen werden. Das verhindert, dass die erzeugten Produkte durch ungleichmäßiges oder übermäßiges Trocknen unbrauchbar werden.

Präsentiert wird das System vom 22. bis 26. September auf der International Conference on Micro and Nano Engineering (kurz MNE) in Lausanne. Die MNE ist eine Konferenzreihe, die jedes Jahr im September in einem europäischen Land stattfindet. Sie ist den zukunftsweisenden Mikro-und Nanotechnologien gewidmet.

Die Konferenz bringt Ingenieure und Wissenschaftler aus der ganzen Welt zusammen, um die jüngsten Fortschritte und zukünftige Trends in der Herstellung, Fertigung, Betrieb und Anwendung von Mikro- und Nanostrukturen bzw. -systemen zu diskutieren. Darüber hinaus findet parallel eine Fachausstellung statt, auf der Aussteller ihre Tools, Materialien und Software von unmittelbarem Interesse für die Mikro- und Nanotechnik-Community zeigen können.

Die Zwickauer Wissenschaftler werden sich mit ihrer Entwicklung am Stand der Firma micro resist technology GmbH (Standnummer 9) präsentieren. Die Firma ist seit vielen Jahren Projektpartner der AG MEMS an der WHZ. Das Unternehmen ist einer der deutschlandweit führenden Hersteller von Photoresisten für die Mikrosystemtechnik. Die AG MEMS und micro resist technology GmbH arbeiten hauptsächlich auf dem Forschungsgebiet der Resistverarbeitung zusammen. Ein Teil dieser Zusammenarbeit mündete letztlich in die Entwicklung des neuen Infrarot-Trocknungssystems, welches von micro resist technology GmbH aufgrund der Relevanz für die Fachwelt in Lausanne (Schweiz) gezeigt wird. „Wir sind sehr froh, dass wir uns auf der MNE präsentieren können. Für eine Arbeitsgruppe einer Fachhochschule ist die Teilnahme an einer derart großen, internationalen Tagung keinesfalls selbstverständlich“, berichtet Dipl.-Ing. (FH) Maik Schönfeld, der zusammen mit Prof. Jürgen Grimm die Arbeitsgruppe auf der Messe vertritt.

http://www.mne2014.org