Plasmabasierendes Verfahren zur Herstellung von nanoskaligen Oxid-Schichten aus reaktiven Präkursoren
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zum Aufbringen einer Oxidschicht auf eine Oberfläche eines Substrats, z. B. zur Herstellung von Titandioxid-Siliziumdioxid – Core-Shell-Partikeln für die Beschichtung von Dachpfannen. Weitere Anwendungsmöglichkeiten der Technologie betreffen dielektrische Schichten für Solarzellen und für Feldeffekttransistoren in der Mikroelektronik, hydrophobe Passivierungsschichten, Antireflexbeschichtungen auf Gläser oder biologische Schichten, beispielsweise auf medizinischen Implantatwerkstücken.
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EZN Erfinderzentrum Norddeutschland GmbH
Tel.: +49 (0)511/85 03 08 – 0
Ansprechpartner
Dipl.-Ing. Andreas Deutsch
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