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Nanopasten für individuelle Funktionsschichten

27.01.2014
»Fraunhofer-Pastemeleon« erstmalig auf nano tech in Tokio

Neue Nanomaterialien und Fertigungstechnologien: Fraunhofer IKTS stellt auf der 13. Internationalen Nanotechnologiemesse und -konferenz nano tech 2014 in Tokio aus.

Das Fraunhofer IKTS präsentiert im Rahmen der Deutschen Gemeinschaftsbeteiligung keramische Technologien für die Herstellung kosteneffektiver Dickschichtpasten und Nanotinten für die Leistungselektronik sowie für die Entwicklung moderner Elektrodenmaterialien für zuverlässige Lithium-Ionen-Batterien und extrem robuste Sensoranwendungen.

Diese auf Multilayerkeramik oder gelöteten Kupferfolien basierenden Applikationen eignen sich beispielsweise für die Integration von Kühlkörpern und thermoelektrischen Generatoren zur Energiegewinnung im Bereich der Fahrzeugtechnik. Nanomaterialien spielen hierbei eine Schlüsselrolle.

Mit dem Trend der Elektromobilität und der umweltfreundlichen Technologien entwickelt sich insbesondere die Leistungselektronik zur Kerntechnologie für eine steigende Anzahl von Produkten und Systemen.

Direktschreibtechnologien wie das Tintenstrahl- oder Aerosoljetdrucken für Silber, Kupfer, Gold und Platin sind vielversprechende Methoden des kontaktlosen Druckens dünner Funktionsschichten. Wissenschaftler des Fraunhofer IKTS entwickeln die dafür benötigten umweltfreundlichen, wasserbasierten Nanopartikel-Drucktinten für keramische Substrate.

Unter Anwendung dieser neuen Technologien lassen sich beispielsweise extrem robuste, in Multilayerkeramik gefasste MEMS (mikro-elektromechanische Systeme), wie Beschleunigungssensoren, herstellen. Unseren Partnern bieten wir ein hochmodernes Pastenportfolio für ein breites Anwendungsspektrum.

In diesem Jahr richtet sich der Fokus auf Pasten mit adaptierbaren Eigenschaften für maßgeschneiderte Funktionsschichten auf Aluminium- und Siliziumnitrid – exzellente Substratmaterialien für die moderne Leistungselektronik. Unser »Pastemeleon« erwartet Sie auf dem Stand!

Begleitend knüpfen wir an den im letzten Jahr zahlreich besuchten Workshop »Thick-film pastes for AlN« an und laden Sie am Freitag, den 31. Januar, zur Fortsetzung des erfolgreichen Veranstaltungsformats ein.

Treffen Sie die Wissenschaftler des Fraunhofer IKTS während der nano tech auf dem Stand 5T-10 im Deutschen Pavillon. Wir freuen uns auf Sie!

Vorträge
Aerosol jet printing of micro resistors using nanoscale powder
Seeds & Needs
Donnerstag, 30. Januar, East Hall 5, Tokyo Big Sight
Dr. Markus Eberstein
Metal nano-inks: from synthesis to application
Seeds & Needs
Donnerstag, 30. Januar, East Hall 5, Tokyo Big Sight
Dr. Nikolai Trofimenko
Workshops
Property control of thick-film pastes by inorganic additives
and the organic vehicle
Kooperationsworkshop der Wirtschaftsförderung Sachsen und
der Yagamata University
Montag, 27. Januar, Tokyo International Forum, Raum 701
Dr. Markus Eberstein
Screen-print pastes for Aluminum nitride and Silicon nitride – towards the next generation of power electronics
Freitag, 31. Januar, Tokyo Big Sight, Raum 801
Dr. Markus Eberstein
Ansprechpartner
Dr. Mihails Kusnezoff
Telefon +49 351 2553-7707
mihails.kusnezoff@ikts.fraunhofer.de
Fraunhofer-Institut für Keramische Technologien und Systeme IKTS, Winterbergstraße 28, 01277 Dresden

Dr. Mihails Kusnezoff | Fraunhofer-Institut
Weitere Informationen:
http://www.ikts.fraunhofer.de

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