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Forscher decken die grundsätzliche Limitierung im Schlüsselmaterial für Festkörperbeleuchtung auf

24.01.2018

Zum ersten Mal hat eine internationale Forschungsgruppe den Kernmechanismus aufgedeckt, der den Indium(In)-Einbau in Indium-Galliumnitrid ((In, Ga)N)-Dünnschichten begrenzt - dem Schlüsselmaterial für blaue Leuchtdioden (LED). Die Erhöhung des In-Gehalts in InGaN-Dünnschichten ist der übliche Ansatz, die Emission von III-Nitrid-basierten LEDs in Richtung des grünen und roten Bereiches des optischen Spektrums zu verschieben, welcher für die modernen RGB-LEDs notwendig ist. Die neuen Erkenntnisse beantworten die langjährige Forschungsfrage: Warum scheitert dieser klassische Ansatz, wenn wir versuchen, effiziente grüne und rote LEDs auf InGaN-Basis zu gewinnen?

Trotz der Fortschritte auf dem Gebiet der grünen LEDs und Laser gelang es den Forschern nicht, einen höheren Indium-Gehalt als 30% in den Dünnschichten zu erreichen. Der Grund dafür war bisher unklar: Ist es ein Problem, die richtigen Wachstumsbedingungen zu finden oder eher ein nicht zu überwindender fundamentaler Effekt? Nun hat ein internationales Team aus Deutschland, Polen und China neues Licht auf diese Frage geworfen und den Mechanismus aufgezeigt, der für diese Begrenzung verantwortlich ist.


Abb. 1: Rastertransmissionselektronenmikroskopische Aufnahme der atomaren Anordnung in (In, Ga)N Monoschicht

IKZ Berlin


Abb. 2: Draufsicht: Oberflächenrekonstruktion

IKZ Berlin

In ihrer Arbeit versuchten die Wissenschaftler, den Indium-Gehalt zu maximieren, indem sie einzelne atomare Schichten von InN auf GaN züchteten. Unabhängig von den Wachstumsbedingungen haben die Indium-Konzentrationen jedoch nie 25% - 30% überschritten - ein deutliches Zeichen für einen grundlegend begrenzten Mechanismus.

Die Forscher verwendeten hochentwickelte Charakterisierungsmethoden, wie das Transmissionselektronenmikroskop mit atomarer Auflösung (TEM) und die In-situ-Reflexions-Hochenergie-Elektronenbeugung (RHEED), und entdeckten, dass, sobald der Indium-Gehalt etwa 25% erreicht, die Atome innerhalb der (In, Ga)N-Monoschicht in einem regelmäßigen Muster angeordnet sind - eine einzelne Indium-Atomreihe alterniert mit zwei Atomreihen von Gallium-Atomen.

Umfassende theoretische Berechnungen ergaben, dass die atomare Anordnung durch eine bestimmte Oberflächenrekonstruktion induziert wird: Indium-Atome sind mit vier benachbarten Atomen verbunden, statt wie erwartet mit drei.

Dadurch entstehen stärkere Bindungen zwischen Indium- und Stickstoffatomen, die es einerseits ermöglichen, während des Wachstums höhere Temperaturen zu nutzen und andererseits dem Material eine bessere strukturelle Qualität zu verleihen. Auf der anderen Seite begrenzt die geordnete atomare Anordnung den Indium-Gehalt auf 25%, welcher unter realistischen Wachstumsbedingungen nicht zu überwinden ist.

„Offensichtlich behindert ein technologischer Engpass sämtliche Versuche, die Emission vom grünen in den gelben und roten Bereich der Spektren zu verlagern“, erklärt Dr. Tobias Schulz: „Zum Beispiel das Wachstum von InGaN-Filmen auf qualitativ hochwertigen InGaN-Pseudosubstraten, welche die Verspannung in der Schicht reduzieren würden.“

Die regelmäßige Anordnung der Atome kann jedoch helfen, bekannte Grenzen des InGaN-Materialsystems zu überwinden: Lokalisation von Ladungsträgern aufgrund von Schwankungen in der chemischen Zusammensetzung in der Schicht. Die Züchtung von fest angeordneten (In, Ga)N-Legierungen mit einer stabilen Zusammensetzung bei hohen Temperaturen kann somit die optischen Eigenschaften von Bauelementen verbessern.

Die Arbeit ist das Ergebnis einer Zusammenarbeit zwischen dem Leibniz-Institut für Kristallzüchtung (Berlin, Deutschland), dem Max-Planck-Institut für Eisenforschung (Düsseldorf, Deutschland), dem Paul-Drude-Institut für Festkörperelektronik (Berlin, Deutschland), dem Institut für Hochdruckphysik (Warschau, Polen) und dem State Key Laboratory of Artificial Microstructure and Mesoscopic Physics (Peking, China).

Der Artikel ist erschienen in:
https://journals.aps.org/prmaterials/abstract/10.1103/PhysRevMaterials.2.011601

Bildunterschrift zur Abb. 1:
Rastertransmissionselektronenmikroskopische Aufnahme der atomaren Anordnung in (In, Ga)N Monoschicht: Einzelne atomare Reihe, die nur Indium-(In)-Atome enthält (dargestellt durch höhere Intensität auf dem Bild), gefolgt von zwei Reihen, die nur Gallium-(Ga)-Atome enthalten.

Kontakt:
Leibniz-Institut für Kristallzüchtung (IKZ)
Presse- und Öffentlichkeitsarbeit
Stefanie Grüber
Tel. 030 / 6392-3263
stefanie.grueber@ikz-berlin.de

Weitere Informationen:

https://journals.aps.org/prmaterials/abstract/10.1103/PhysRevMaterials.2.011601

Dipl.-Geogr. Anja Wirsing | Forschungsverbund Berlin e.V.
Weitere Informationen:
http://www.fv-berlin.de

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