Erste Hochtemperaturanlage zum Lasersintern

Allerdings konnten sie bislang wegen ihrer Schmelztemperaturen zwischen 220 und 380°C nicht für den Lasersinterprozess eingesetzt werden. Die neue Anlage Eosint P 800 erschließt durch ihre Eignung für Prozesstemperaturen bis 385°C diese interessante Werkstoffgruppe für die Lasersinterproduktion und damit auch für das E-Manufacturing.

Anlage zum Hochtemperatur-Lasersintern mit neuen Baugruppen

Die Lasersinter-Anlage baut auf der Eosint P 730 auf und wird durch neu konstruierte Baugruppen wie Prozesskammer und Wechselrahmen auf das Anforderungsniveau des Hochtemperaturprozesses angehoben. Die Etablierung eines um etwa 200°C höheren Temperaturniveaus als bei üblichen Lasersinter-Anwendungen stellte dabei neue Anforderungen an Dauerfestigkeit, die Beherrschung der Wärmeausdehnung und die Temperaturverteilung innerhalb der Anlage, betont das Kraillinger Unternehmen.

Deshalb setzte man auf neue Werkstoffe, beispielsweise auf Glaskeramik im Wechselrahmen. Damit werde die Konstruktion sowohl den Prozessanforderungen an die Temperaturverteilung als auch den mechanischen Genauigkeitsanforderungen unter Berücksichtigung der temperaturbedingten Längenausdehnung gerecht.

Neuer Hochleistungspolymer für die Lasersinter-Anlage entwickelt

Als ersten Werkstoff hat EOS den Hochleistungspolymer Peek HP3 aus der Gruppe der Polyaryletherketone für die Lasersinter-Anlage entwickelt. Die lasergesinterten Teile erreichen damit eine Zugfestigkeit bis 95 MPa sowie einen E-Modul bis 4400 MPa. Diese Werte liegen um 100% über denen der bislang verfügbaren Werkstoffe PA 12 und PA 11, heißt es.

„Mit der Auslieferung der ersten P-800-Anlagen werden wir im Mai 2009 starten“, erklärt Peter Klink, Geschäftsführer Vertrieb bei EOS. Dann sollen im noch bis Ende September laufenden Geschäftsfjahr noch drei bis vier Maschinen an die Kunden gehen.