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Siemens belegt wieder einen Spitzenplatz bei internationalen Patentanmeldungen

22.02.2007
Siemens hat im vergangenen Jahr seine starke Patentposition bei internationalen Patentanmeldungen behauptet. Im aktuell veröffentlichten Ranking der Weltorganisation für geistiges Eigentum (WIPO) in Genf belegt Siemens mit 1.480 Patentanmeldungen erneut den dritten Platz hinter Phillips (2.495) und Matsushita (2.344).

"Die Anmeldung von Patenten bei der WIPO wird immer wichtiger, um einen weltweiten Patentschutz für unsere F&E Aktivitäten zu erhalten", so Prof. Dr. Winfried Büttner, Leiter Corporate Intellectual Property.

Insgesamt meldete Siemens bei der WIPO 1480 Patente an. Gegenüber Einzelanmeldungen in den bis zu 184 Mitgliedsstaaten lassen sich mit einer Anmeldung über die WIPO die Schutzrechte mit weitaus geringerem Aufwand erwerben. Dies liegt an dem bei der WIPO angewendeten PCT Verfahren (Patent Cooperation Treaty), welches die internationale Zusammenarbeit im Patentwesen regelt.

Über das PCT-Verfahren hat Siemens mit je 1000 Anmeldungen in China und in USA sowie mit jeweils einigen hundert in Japan, Indien und Korea seine Patenposition auf den wichtigen internationalen Märkten weiter gestärkt. Insbesondere die hohen Umsatzzuwächse in der Medizintechnik, auf dem Energiesektor und bei Infrastrukturprojekten in Asien erfordern dort den intensiven Ausbau des Patentschutzes.

"Je ein Drittel unserer Patentanmeldungen im letzten Geschäftsjahr liegen in den Siemens Applikationsfeldern Energy & Environmental Care, Healthcare und Automation & Control sowie Industrial & Public Infrastructures", so Büttner. "Wir stärken den Patentstock in diesen Siemens Wachstumsfeldern gezielt."

Das PCT Verfahren ist zum Ausbau des Patentportfolios in den wichtigen Märkten eine gute Methodik und hat uns schon bei der Entwicklung des europäischen Patentportfolios besonders in den großen europäischen Ländern Frankreich, Großbritannien und Italien effektiv unterstützt.

Guido Weber | Siemens AG
Weitere Informationen:
http://www.siemens.com

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